眾所周知，靶材材料的技術(shù)發(fā)展趨勢與下游應(yīng)用產(chǎn)業(yè)的薄膜技術(shù)發(fā)展趨勢息息相關(guān)，隨著應(yīng)用產(chǎn)業(yè)在薄膜產(chǎn)品或元件上的技術(shù)改進(jìn)，靶材技術(shù)也應(yīng)隨之變化。

隨著電子信息產(chǎn)業(yè)的飛速發(fā)展，薄膜科學(xué)應(yīng)用日益廣泛。濺射法是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一，濺射沉積薄膜的源材料即為靶材。用靶材濺射沉積的薄膜致密度高，附著性好。靶材的性能要求與制備工藝看一下介紹。

靶材的主要性能要求 純度 純度是靶材的主要性能指標(biāo)之一，因?yàn)榘胁牡募兌葘Ρ∧さ男阅苡绊懞艽?。不過在實(shí)際應(yīng)用中，對靶材的純度要求也不盡相同。

本文著眼于靶材產(chǎn)業(yè)鏈及企業(yè)格局的分析，認(rèn)為有如下因素利好國內(nèi)靶材企業(yè)的發(fā)展: 1、下游半導(dǎo)體及面板產(chǎn)業(yè)產(chǎn)能轉(zhuǎn)移國內(nèi)；2、進(jìn)口靶材免稅期年底到期；3、技術(shù)突破；4、國家扶持及進(jìn)口替代。

金屬濺射鍍膜靶材，合金濺射鍍膜靶材，陶瓷濺射鍍膜靶材，硼化物陶瓷濺射靶材，碳化物陶瓷濺射靶材，氟化物陶瓷濺射靶材 ，氮化物陶瓷濺射靶材 ，氧化物陶瓷靶材，硒化物

ITO材料是一種n型半導(dǎo)體材料，該種材料包括ITO粉末、靶材、導(dǎo)電漿料及ITO透明導(dǎo)電薄膜。其主要應(yīng)用分為：平板顯示器(FPD)產(chǎn)業(yè)，如液晶顯示器(LCD)、薄膜晶體管顯示器(TFT-LCD)、電激發(fā)光顯示器(EL)、場發(fā)射顯示器(FED)、電致有機(jī)發(fā)光平面顯示器(OELD)、等離子顯示器(PDP)等;光伏產(chǎn)業(yè)，如薄膜太陽能電池;功能性玻璃，如紅...